لینک پاورپوینت رسوب دهی شیمیایی بخار به کمک پلاسما (PECVD)

پاورپوینت رسوب دهی شیمیایی بخار به کمک پلاسما (PECVD)   17اسلاید   PECVD •در سطح یک بستر (معمولا داغ) و  در محیط گازی واکنش دهنده‌ها بر اساس ترموشیمی ( Thermochemical reactions ) اتفاق می‌افتد     •به‌طور معمول راکتورهای تجاری PECVD به وسیله فرکانس رادیویی ( Radio Frequency- RF ) عمل می‌کنند، و در نهایت یک پلاسما با فشار پایین ایجاد می‌نمایند. پلاسما بر اثر یونیزاسیون جزئی ( Fractional Ionization ) بوجود می‌آید و از این رو دمای بسیار بالایی نخواهد داشت. از این جهت گاه پلاسمای سرد ( Cold Plasma ) یا کم چگال ( Low Density ) نیز اتلاق می‌شود.     •روش رسوب­ دهی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما ( PACVD یا PECVD ) اولین بار در دهه ی ۱۹۶۰ برای کاربردهای نیمه ­رسانا توسعه داده شد و استفاده آن برای رسوب نیترید سیلسیم (سیلیکون نیترید) بود.     •عامل کنترل کننده سرعت، سنیتیک سطح خواهد بود که در نتیجه موجب یکنواختی بیشتر رسوب بدست آمده خواهد شد. ...

پاورپوینت رسوب دهی شیمیایی,پاورپوینت پلاسما,پاورپوینت رسوب دهی شیمیایی بخار به کمک پلاسما (PECVD) برای پشتیبانی و خرید فایل به سایت فروشنده مراجعه بفرمائید